Plasma Etch, Inc.

A PE-100 é uma solução completa de tratamento com plasma capaz de gravura de ião reactivo, funcionalização de plasma, e mais. Este modelo é perfeito para os fabricantes, instalações médicas, universidades, centros de pesquisa, ou qualquer outra empresa na necessidade de uma solução de processamento de plasma de produção de grau rentável.<br />
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O tamanho conveniente câmara, juntamente com a disponibilidade de energia de RF de alta frequência, se combinam para criar uma unidade capaz de produção suficientemente pequeno para caber em praticamente qualquer lugar no seu laboratório ou produção de espaço de trabalho.<br />
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controle laptop completo permite reforço da coerência e da complexidade das receitas. automação PC também oferece facilidade de uso no chão de fábrica.<br />
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Este modelo está disponível em uma das três configurações padrão:<br />
1) Limpeza Plasma / Plasma Etching<br />
2) Reactive Ion Etching (RIE)<br />
3) Configuração Convertible - Inclui tanto de processamento de plasma isotrópica e anisotrópica em um único sistema. configuração da bandeja removível.